離子鍍
1.定義(yi)
蒸發物質的分子被電子碰撞電離後以離子沉積在固體(ti) 表麵,稱為(wei) 離子鍍。離子鍍是真空蒸發與(yu) 陰極濺射技術的結合。一種離子鍍係統如圖4[離子鍍係統示意圖]
2.原理
蒸發源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以後,蒸發源與(yu) 工件之間產(chan) 生輝光放電。由於(yu) 真空罩內(nei) 充有惰性氬氣,在放電電場作用下部分氬氣被電離,從(cong) 而在陰極工件周圍形成一等離子暗區。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表麵,致使工件表層粒子和髒物被轟濺拋出,從(cong) 而使工件待鍍表麵得到了充分的離子轟擊清洗。隨後,接通蒸發源交流電源,蒸發料粒子熔化蒸發,進入輝光放電區並被電離。帶正電荷的蒸發料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同衝(chong) 向工件,當拋鍍於(yu) 工件表麵上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附於(yu) 工件表麵的鍍層。
3.分類
① 磁控濺射離子鍍
② 反應離子鍍
③ 空心陰極放電離子鍍
④ 多弧離子鍍。
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