真空鍍膜為什麽要用到冷卻水

為(wei) 什麽(me) 也要用水冷卻？

主要是圓柱靶。磁控濺射靶在發射時會(hui) 產(chan) 生高溫會(hui) 使射槍變形，所以它有一個(ge) 水套來冷卻射槍。同時還有一個(ge) 重要原因磁控濺射可以被認為(wei) 是鍍膜技術中zui突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜基結合力好。
   從(cong) 更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運動規律 , 探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質原因。磁控濺射可以被認為(wei) 是鍍膜技術中zui突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜基結合力好、裝置性能穩定。

     真空冷水機廣泛應用於(yu) 工業(ye) 製冷，它能提供恒流、恒溫、恒壓，控製真空電鍍設備的溫度，不同工藝流程需要控製不同的溫度，真空電鍍設備中冷水機可以分為(wei) 風冷式的冷水機和水冷式的冷水機，水冷式冷水機達到好的冷卻效果加冷卻水塔，風冷式冷水機對工作環境有要求，它通過熱風循環製冷，通風效果的好壞直接影響到冷水機的製冷效果。